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| 以活性炭与氟为原料，在装有活性炭的反应炉中缓慢通入高浓氟气，通过控制电加热，供氟速率和冷却反应炉来控制反应温度。反应产物经过除尘、碱洗、脱水后，可获得含CF4、C2F6、C3F8的粗品，然后把粗品混合物进行间歇低温精馏，提取C2F6，再用分子筛进一步进行低温吸附脱水，可获得纯度大于99.7%的C2F6。六氟乙烷可用于一种具多功能的蚀刻技术，常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外，它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。六氟乙烷可连同三氟甲烷一起用于制冷剂R508A（六氟乙烷占61%）及R508B（六氟乙烷占54%）。 |
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